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微波材料学工作站--微波等离子化学气相沉积系统
主要用途：
★该系统既可用作传统的化学气相沉积设备，又可用作微波能化学气相沉积设备，同时又是微波等离子化学气相沉积设备
★主要为应用在半导体，大范围的绝缘材料，大多数金属材料和金属合金材料，石墨烯、纳米材料、碳纤维、碳化硅、镀膜等新材料新工艺领域
★该款具有高电离、高电子温度和电子密度、适用压强范围宽、无内部电极污染等优异性能，微波等离子体在材料表面处理、金刚石薄膜制备、化学气相沉积、刻蚀以及甲烷转化制氢、长余辉发光材料、陶瓷烧结、碳纳米管修饰［3］、纳米粉体合成、处理水污染等领域
产品特点：
★垂直反应器的设计可使等离子高密度；对称的微波发生器装置，使产生的等离子环境更均匀
★谐振腔内没有内部电极，可以避免电极放电所产生的污染，而且，它的运行气压范围比较宽，所产生等离子体密度高、区域大，稳定性高，且不与真空器接触，从而避免了器壁对薄膜的污染
★操作便捷：气路连接方式采用了KF快速连接法兰结构，使取放物料过程简化，只需一支卡箍便可完成气路连接，方便操作，取消了复杂的法兰安装过程，减少了安装造成的损坏
★多功能：4种加热方式可选可变：微波等离子、纯微波、传统电加热、混合加热；适应包括金属与合金在内非易燃的任何样品的热处理
★双温区结构：上部等离子区或加热区下部样品台加热区
★**开发的微波场专用传感器，精准控温
★安全：**采用防止泄漏的联锁保护屏蔽措施安全可靠的微波屏蔽腔体设计，多重防泄漏保护
*标配装有专业微波抑制器
*内置微波泄漏传感器
★节能：使用寿命长：磁控管微波加热，避免和解决了传统的加热丝、硅碳棒、硅钼棒等加热元件容易损坏的问题，也避免了因加热元件损坏而造成的时间、实验进度、维修费用等各种损失
★采用无级可调、高稳定度长寿命、连续波微波源，确保设备能够连续稳定长时间运行
★嵌入式微机一体化温度控制系统；实现稳定性控温
★无须烘炉过程：炉腔整体自身发热，加热均匀
★微波能量即开即有，无热惯性，易于控制温度
★配有万向轮调节底脚，方便移动和固定
技术参数：
型号/model | WBDQC-4 | |
可加热材料 | 非易燃易爆的任何材料 | |
微波频率 | 2.45GHZ±50MHz | |
加热方式 | 等离子加热、纯微波加热、传统电加热、混合加热 | |
**功率/ KW(连续、可调) | 4 | |
样品腔长度 | 标配100mm可根据用户需求订制 | |
加热样品腔(材质) | 石英管（微波等离子工作模式） | 石英管&刚玉管（其它加热方式） |
控温范围/℃ | 1100℃石英样品腔直径：Φ45mm、Φ60mm、Φ100 mm 可选； | 1500℃刚玉样品腔直径：Φ45mm、Φ60mm 可选； |
温度测试元件 | 微波场专用传感器 | |
温度分辨率/℃ | 0.1 | |
样品台**温度范围 | 室温-1200℃、更高温度可选配 | |
控温精度/℃ | 1200℃以下±1；1200℃以上±2℃ | |
温度偏差/℃ | ||
温度稳定波动度/℃ | ||
冷却方式 | 风冷 | |
恒温区长度/mm | 标配100mm可根据用户需求订制 | |
升温速率(标配) | 0～200℃/min（微波等离子工作模式除外） 任意设定，可编程、分段加热 | |
温度控制方式 | 10段可设工艺参数，7寸触摸屏操作，带数据存储功能；提供手动、自动、恒温控制模式，曲线实时显示 | |
控制气体 | 控制气体：H2、CH4、Ar、N 2 、其它气体可选 | |
流量控制 | 标配 2 套质量流量控制器：七星华创（真空保护阀门后置，匹配真空模式）；精度：0.8% | |
**耐压 | 1MPa；控制响应时间：10ms | |
真空系统真空泵 | RVP2008；压力范围：10 -3 Torr~760 Torr **抽速：8.5m 3 /h | |
真空计 | 数显真空计：1atm-10 -1 Pa | |
标配 | 质量流量自动控制系统配备控制计算机及控制软件，可以内置实时显示和保存生长参数 | |
气路其他配置 | 气柜、气路及阀门等 | |
端口 | 不锈钢 KF50 法兰接口 | |
电源电压（V） | 220 | |
微波泄漏量/ mW/㎝2 | ≤0.4 | |
外型尺寸（长′宽′高）/mm | 1100×750×1900 | |
选配功能：
质量流量控制系统；美国Alicat质量流量&控制器
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